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當(dāng)前位置:維庫(kù)電子市場(chǎng)網(wǎng)>IC>lthc 更新時(shí)間:2026-04-13 01:45:27

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  • OLED改變“視”界

    膜厚形成的微腔效應(yīng)從而擴(kuò)大顯示色域范圍。另外,通過(guò)空穴注入層來(lái)控制子像素,可以用較簡(jiǎn)便的方法得到微腔效應(yīng),該技術(shù)也可與高精細(xì)化的liti工藝結(jié)合使用。 圖3 采用藍(lán)色共用層的消減化oled工藝 對(duì)于提高oled高畫質(zhì)方面,作為高精細(xì)化的制造工藝技術(shù)liti(激光熱打印法)的開發(fā)一直在持續(xù)當(dāng)中。oled要超越用tft-lcd來(lái)實(shí)現(xiàn)的2invga的精細(xì)度,就要靠發(fā)光層成膜技術(shù)。所謂的liti法,即發(fā)光體先蒸發(fā)成膜源,此薄膜在激光照射下在基板玻璃上沉積成膜。施主薄膜的基質(zhì)與發(fā)光體之間設(shè)計(jì)了lthc層,lthc層在受激光快速加熱后膨脹,使發(fā)光層與基質(zhì)相分離,從而使激光能在玻璃基板上轉(zhuǎn)動(dòng)成膜。應(yīng)用liti法,加熱速度為7×107℃/s,lthc溫度瞬間可達(dá)到2000℃,此外發(fā)光層在1ms內(nèi)溫度可超過(guò)125℃,不會(huì)引起發(fā)光材料變質(zhì),有著傳統(tǒng)方法不可比擬的優(yōu)勢(shì)(見表2)。 表2 oled制作方法 3.3 研發(fā)和優(yōu)化驅(qū)動(dòng)電路 與眾多顯示器件一樣,研發(fā)和優(yōu)化驅(qū)動(dòng)電路也是oled的研究重點(diǎn):一是研制彩色顯示屏及相關(guān)驅(qū)動(dòng)電路;另外,為了實(shí)現(xiàn)大面積顯示,研發(fā)低溫多晶硅(ltps)tf

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