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當前位置：維庫電子市場網(wǎng)>IC>sc-1 更新時間:2026-04-13 05:57:13

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sc-1中文資料

  • 半導體硅片RCA清洗技術

    傳統(tǒng)的rca清洗技術：所用清洗裝置大多是多槽浸泡式清洗系統(tǒng) 清洗工序： sc-1 → dhf → sc-2 1. sc-1清洗去除顆粒：⑴ 目的：主要是去除顆粒沾污（粒子）也能去除部分金屬雜質(zhì)。⑵ 去除顆粒的原理： 硅片表面由于h2o2氧化作用生成氧化膜（約6nm呈親水性），該氧化膜又被nh4oh腐蝕，腐蝕后立即又發(fā)生氧化，氧化和腐蝕反復進行，因此附著在硅片表面的顆粒也隨腐蝕層而落入清洗液內(nèi)。① 自然氧化膜約0.6nm厚，其與nh4oh、h2o2濃度及清洗液溫度無關。② sio2的腐蝕速度，隨nh4oh的濃度升高而加快，其與h2o2的濃度無關。③ si的腐蝕速度，隨nh4oh的濃度升高而快，當?shù)竭_某一濃度后為一定值，h2o2濃度越高這一值越小。④ nh4oh促進腐蝕，h2o2阻礙腐蝕。⑤ 若h2o2的濃度一定，nh4oh濃度越低，顆粒去除率也越低，如果同時降低h2o2濃度,可抑制顆粒的去除率的下降。⑥ 隨著清洗洗液溫度升高，顆粒去除率也提高，在一定溫度下可達最大值。⑦ 顆粒去除率與硅片表面腐蝕量有關，為確保顆粒的去除要有一 定量以上的腐蝕。⑧ 超聲波清洗時，由于空洞

  • 新的硅片清洗技術

    a.新清洗液的開發(fā)使用1）.apm清洗a. 為抑制sc-1時表面ra變大，應降低nh4oh組成比，例：nh4oh：h2o2：h2o = 0.05：1：1當ra = 0.2nm的硅片清洗后其值不變，在apm洗后的d1w漂洗應在低溫下進行。b. 可使用兆聲波清洗去除超微粒子，同時可降低清洗液溫度，減少金屬附著。c. 在sc-1液中添加界面活性劑、可使清洗液的表面張力從6.3dyn/cm下降到19 dyn/cm。選用低表面張力的清洗液，可使顆粒去除率穩(wěn)定，維持較高的去除效率。使用sc-1液洗，其ra變大，約是清洗前的2倍。用低表面張力的清洗液，其ra變化不大（基本不變）。d. 在sc-1液中加入hf，控制其ph值，可控制清洗液中金屬絡合離子的狀態(tài)，抑制金屬的再附著，也可抑制ra的增大和cop的發(fā)生。e. 在sc-1加入螯合劑，可使洗液中的金屬不斷形成螯合物，有利抑制金屬的表面的附著。2）.去除有機物： o3 + h2o3）.sc-1液的改進： sc-1 + 界面活性劑sc-1 + hfsc-1 + 螯合劑4）.dhf的改進： dhf + 氧化劑（例hf+h2o2）dhf + 陰離

  • 半導體硅片的化學清洗技術-硅片的化學清洗工藝原理

    化學清洗技術。⑵ 美國原cfm公司推出的full-flow systems封閉式溢流型清洗技術。⑶ 美國verteq公司推出的介于浸泡與封閉式之間的化學清洗技術（例goldfinger mach2清洗系統(tǒng)）。⑷ 美國ssec公司的雙面檫洗技術（例m3304 dss清洗系統(tǒng)）。 ⑸ 曰本提出無藥液的電介離子水清洗技術（用電介超純離子水清洗）使拋光片表面潔凈技術達到了新的水平。⑹ 以hf / o3為基礎的硅片化學清洗技術。 目前常用h2o2作強氧化劑，選用hcl作為h+的來源用于清除金屬離子。 sc-1是h2o2和nh4oh的堿性溶液，通過h2o2的強氧化和nh4oh的溶解作用，使有機物沾污變成水溶性化合物，隨去離子水的沖洗而被排除。 由于溶液具有強氧化性和絡合性，能氧化cr、cu、zn、ag、ni、co、ca、fe、mg等 使其變成高價離子，然后進一步與堿作用，生成可溶性絡合物而隨去離子水的沖洗而被去除。 為此用sc-1液清洗拋光片既能去除有機沾污，亦能去除某些金屬沾污。 sc-2是h2o2和hcl的酸性溶液，它具有極強的氧化性和絡合性，能與氧以前的金屬作用生成鹽隨去離子水沖洗而被去除

  • 光線示波器的種類和選擇方法

    光線示波器按供電方式不同分為交流供電示波器、直流供電示波器和交直流兩用光線示波器。交流供電示波器，如國產(chǎn)sc-16、sc 18和sc-60等機型，一般用于有交流電的實驗室或工作現(xiàn)場；直流供電示波器，如國產(chǎn)sc-9、sc-1 7、sc-1 9和sc-22等機型，體積小、質(zhì)量小，適用于沒有交流電源的場合；交直流兩用光線示波器，如國產(chǎn)的sc-10、sc-11等機型，兼有以上兩類示波器的特點，既能用紫外光直接記錄，又能用白熾燈源進行暗記錄。 按記錄方式的不同可分為直接記錄和暗記錄兩種形式。直接記錄在普通光線下能顯示圖像，因此可直接看到記錄圖像；暗記錄只需一般的光源，但需在暗室中顯影和定影，因此在試驗過程中不能直接看到記錄圖像，這類光線示波器主要有sc-17、sc-19和sc-22等型號。 按磁系統(tǒng)的不同可分為單磁式和共磁式兩種。單磁式示波器的每個振動子本身有一個磁鋼，如sc-1型光線示波器；共磁式示波器的全部振動子共用一個磁鋼，振動子插入磁鋼的各個孔中，目前多數(shù)示波器采用共磁式。使用時可根據(jù)測試要求和條件合理選擇。 歡迎轉載，信息來源維庫電子市場網(wǎng)（www.hbjingang.com）

  • 光線示波器概述

    光線示波器是一種常用的模擬式記錄器，主要用于模擬量數(shù)據(jù)的記錄，它將信號調(diào)整儀輸入的電信號轉換為光信號并記錄在感光紙或膠片上，從而得到試驗變量與時間的關系曲線。如下圖所示為sc-16型光線示波器的外形圖。 圖 sc-1 6型光線示波器的外形 光線示波器是依據(jù)磁電式原理工作，并以感光方式記錄測量結果，它的記錄方式主要有三種：白熾光顯定影記錄、紫外光直接記錄和白熾光直接記錄。 白熾光顯定影記錄采用普通照明燈作光源，把信號記錄在膠卷或照相感光紙上，然后在暗室里顯、定影。紫外光直接記錄采用超高壓水銀燈作光源，用它產(chǎn)生的紫外光把信號記錄在紫外線感光紙上，經(jīng)過二次曝光即顯示波形。白熾光苴接記錄采用高效白熾燈作光源，把信號記錄在涂有特種感光乳劑的記錄紙上，經(jīng)過二次曝光后，顯出被測信號波形。 光線示波器具有以下特點。 ①由于光線示波器采用光學放大系統(tǒng)，使用高質(zhì)量磁系統(tǒng)及高靈敏度的振動子，因此可獲得很高的靈敏度。 ②動圈式振動子的自振頻率可高達上萬赫茲，因此記錄信號的頻率可達數(shù)千赫茲，是筆式記錄儀的十幾倍。 ③能同時記錄多個信號，光線不會相互干擾、碰撞，可實現(xiàn)交叉

sc-1替代型號

SBRB2545CTT4G SBL3040 SBL2040CT SBL-1-1 SBL-1 SBG1040CT SBC817-25LT1G SBC807-40LT1G SBBH SBB-2089

SC-10 SC100 SC1000 SC1088 SC-1091 SC110 SC1101 SC1102 SC1104 SC1128

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