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Applied Materials再推新品 SEMVision G4亮相SEMICON Japan
applied materials日前推出了新一代缺陷識別sem系統(tǒng)applied semvision(tm) g4，將semvision系統(tǒng)的生產(chǎn)能力拓展到45nm及以下節(jié)點。該設(shè)備將在semicon japan上展出。 semvision g4最大的特點在于sem column設(shè)計以及mpsi（multi-perspective sem imaging）的應(yīng)用，在每秒一個缺陷的再檢速率下，圖像分辨率可達2nm。 applied工藝診斷及控制事業(yè)部sem分部總經(jīng)理ronen benzion表示，45nm節(jié)點以下高比例高密度存儲器及邏輯器件結(jié)構(gòu)的缺陷識別及分類要求sem系統(tǒng)具有非常優(yōu)異的性能，新推出的semvision g4在圖像質(zhì)量及生產(chǎn)能力方面達到了一個新的高度，將給客戶提供快速的缺陷根源分析提高產(chǎn)品良率。東芝半導體公司制造工程運營部高級經(jīng)理tomoharu watanabe表示，近日semvision g4已經(jīng)用于量產(chǎn)工藝中，希望借其來提供在線缺陷源分析。來源:小草

Applied Materials再推新品 SEMVision G4亮相SEMICON Japan
applied materials再推新品 semvision g4亮相semicon japan 出自：semi 編輯曹明霞 applied materials日前推出了新一代缺陷識別sem系統(tǒng)applied semvision(tm) g4，將semvision系統(tǒng)的生產(chǎn)能力拓展到45nm及以下節(jié)點。該設(shè)備將在semicon japan上展出。 semvision g4最大的特點在于sem column設(shè)計以及mpsi（multi-perspective sem imaging）的應(yīng)用，在每秒一個缺陷的再檢速率下，圖像分辨率可達2nm。 applied工藝診斷及控制事業(yè)部sem分部總經(jīng)理ronen benzion表示，45nm節(jié)點以下高比例高密度存儲器及邏輯器件結(jié)構(gòu)的缺陷識別及分類要求sem系統(tǒng)具有非常優(yōu)異的性能，新推出的semvision g4在圖像質(zhì)量及生產(chǎn)能力方面達到了一個新的高度，將給客戶提供快速的缺陷根源分析提高產(chǎn)品良率。東芝半導體公司制造工程運營部高級經(jīng)理tomoharu watanabe表示，近日semvision g4已經(jīng)用于量產(chǎn)工藝中，希