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applied materials日前推出了新一代缺陷識別sem系統(tǒng)applied semvision(tm) g4,將semvision系統(tǒng)的生產(chǎn)能力拓展到45nm及以下節(jié)點。該設(shè)備將在semicon japan上展出。 semvision g4最大的特點在于sem column設(shè)計以及mpsi(multi-perspective sem imaging)的應(yīng)用,在每秒一個缺陷的再檢速率下,圖像分辨率可達2nm。 applied工藝診斷及控制事業(yè)部sem分部總經(jīng)理ronen benzion表示,45nm節(jié)點以下高比例高密度存儲器及邏輯器件結(jié)構(gòu)的缺陷識別及分類要求sem系統(tǒng)具有非常優(yōu)異的性能,新推出的semvision g4在圖像質(zhì)量及生產(chǎn)能力方面達到了一個新的高度,將給客戶提供快速的缺陷根源分析提高產(chǎn)品良率。 東芝半導體公司制造工程運營部高級經(jīng)理tomoharu watanabe表示,近日semvision g4已經(jīng)用于量產(chǎn)工藝中,希望借其來提供在線缺陷源分析。 來源:小草
applied materials再推新品 semvision g4亮相semicon japan 出自:semi 編輯 曹明霞 applied materials日前推出了新一代缺陷識別sem系統(tǒng)applied semvision(tm) g4,將semvision系統(tǒng)的生產(chǎn)能力拓展到45nm及以下節(jié)點。該設(shè)備將在semicon japan上展出。 semvision g4最大的特點在于sem column設(shè)計以及mpsi(multi-perspective sem imaging)的應(yīng)用,在每秒一個缺陷的再檢速率下,圖像分辨率可達2nm。 applied工藝診斷及控制事業(yè)部sem分部總經(jīng)理ronen benzion表示,45nm節(jié)點以下高比例高密度存儲器及邏輯器件結(jié)構(gòu)的缺陷識別及分類要求sem系統(tǒng)具有非常優(yōu)異的性能,新推出的semvision g4在圖像質(zhì)量及生產(chǎn)能力方面達到了一個新的高度,將給客戶提供快速的缺陷根源分析提高產(chǎn)品良率。 東芝半導體公司制造工程運營部高級經(jīng)理tomoharu watanabe表示,近日semvision g4已經(jīng)用于量產(chǎn)工藝中,希
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