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選擇和操作開關(guān)功率晶體管:SiC 元件

出處:維庫電子市場網(wǎng) 發(fā)布于:2024-11-01 17:19:21

   碳化硅元件
  與 GaN 相比,SiC 擁有超過 15 年的二極管實際制造和應(yīng)用經(jīng)驗以及超過 10 年的晶體管實際制造和應(yīng)用經(jīng)驗。 SiC JFET 和共源共柵構(gòu)成了堅實的技術(shù),SiC 增強(qiáng)型 MOSFET 得到了英飛凌、Rohm、Microsemi 等重量級公司的支持,SiC IGBT 和 BT 也在開發(fā)中。 SiC 很容易承受高電壓,即使是批產(chǎn)品也被指定為 1200 至 1700 V。毫無疑問,在呈指數(shù)級增長的電動汽車市場中,SiC 擁有非常光明的未來,從長遠(yuǎn)來看,它將取代 Si IGBT。
   材料特性
  與硅相比,這些是重要的優(yōu)點:
  寬帶隙 3.2 與 1.1 eV
  擊穿場強(qiáng) 2.4 比 0.25 MV/cm 好得多
  導(dǎo)熱率 3.3 ... 4.9 比 1.5 W/cmK 好得多
  電子漂移速度 1400 遠(yuǎn)優(yōu)于 950x103 cm2 /Vs 5。 Tj 250 C 更高
  SiC的特殊性能:
  千伏范圍內(nèi)的高擊穿電壓和低漏電流。
  連續(xù)高溫運行可達(dá)約。 250℃。
  高開關(guān)速度。
  損耗不隨溫度而增加。

  傳熱性能優(yōu)良,>3倍于硅。

  圖 7.2 晶格位移是生產(chǎn)低成本 SiC 半導(dǎo)體困難的原因。如果沒有位移,A' 將位于 A 處。晶格缺陷較多,導(dǎo)致成品率低。
  嚴(yán)重的生產(chǎn)問題長期阻礙了SiC的引進(jìn)。初,只能生產(chǎn)缺陷率較高的小晶圓。個可用的 SiC 產(chǎn)品——二極管——非常昂貴。時至今日,晶圓與硅晶圓相比仍相當(dāng)小,良率較低,晶圓制造商也只有少數(shù)。的公司是 Cree,該材料也用于其 LED。 Cree 近投入巨資,期望汽車行業(yè)(僅大眾汽車)能帶來大筆業(yè)務(wù),這肯定會實現(xiàn)??赡軒啄陜?nèi)SiC就會出現(xiàn)短缺。供應(yīng)有限且價格高昂的原因是什么?主要原因是不良率導(dǎo)致良率低下。圖 7.2 至 7.5 直觀地展示了這些問題。

  更高的導(dǎo)熱率意味著盡管芯片小得多,但結(jié)和外殼之間的熱阻保持不變。 TO-220 中的部件指定 1.5 度/W,與的 Coolmos 相同。

  圖 7.4:Si 和 SiC 的帶隙。更高的帶隙允許在 250°C 和千伏的高溫下運行。 SiC 的磁場強(qiáng)度是 Si 的 10 倍。理論上,甚至 > 500 C 的工作溫度也是可能的。

  圖 7.5:Si 和 SiC 的載流子濃度。除了帶隙之外,這還決定了半導(dǎo)體在什么溫度下仍保持不變。對于 SiC,該溫度 > 1000 C。材料上方僅保留一個電阻。
  允許的高場強(qiáng)可以將漂移區(qū)減小到 Si 的 1/10,并將其摻雜度提高 10 倍。在相同電壓下,這會將 Rdson 通常降低至 Si 的 1/10。還提到了 1/20 至 1/30 的值。目前,多家公司的增強(qiáng)型 MOSFET 已在 1200 V 電壓下實現(xiàn)了 < 10 mOhms,而這僅僅是一個開始。 JFET 的 Rdson 已經(jīng)遠(yuǎn)低于 10 mOhms。
  SiC零件的生產(chǎn)更加復(fù)雜、更加昂貴并且需要額外的投資,例如高溫室、高能高溫(>500℃)離子注入設(shè)備。處理熱離子時,不能使用常規(guī)光掩模,因為它們只能承受 < 200 C 的溫度,因此需要更耐用的材料,例如 SiO2。制造這種硬掩模需要更多時間。首先,必須沉積材料,然后必須通過光刻對其進(jìn)行定義,然后必須進(jìn)行蝕刻。下一個困難是大多數(shù)原子進(jìn)入碳化硅的擴(kuò)散系數(shù)相當(dāng)?shù)?,特別是對于鋁、磷和氮等常規(guī)材料。因此,注入過程必須在不同的能量水平下重復(fù)幾次,多十次。
  除了外延片價格較高(比硅片高2個數(shù)量級)外,其工藝復(fù)雜、耗時長,需要特殊投資。
  所有消息人士一致預(yù)測,SiC 部件的價格永遠(yuǎn)不會達(dá)到 Si 部件的價格。然而,明智的做法是謹(jǐn)慎對待此類比較,因為 SiC 芯片比同類 Si 芯片小得多。
  僅比較零件的價格具有誤導(dǎo)性。只有完整的電路才能進(jìn)行比較。 SiC 在高溫、高壓應(yīng)用中表現(xiàn)出色,因此非常適合惡劣的汽車環(huán)境。它明顯優(yōu)于GaN。
  SiC 將取代 Si IGBT,因為它允許更高的工作頻率和溫度,并且可以節(jié)省電感和電容元件。此外,它比硅部件更加堅固,這是汽車應(yīng)用中的一個重要論點。當(dāng) JFET 和 MOSFET 的 Rdson 如此低時,正在開發(fā)的 SiC IGBT 是否有意義還值得懷疑。在離線 SMPS 中,SiC 的性能可能會優(yōu)于 Si,功率可達(dá)數(shù)百瓦以上。 GaN 是一種低壓材料,其利基小于 100 V。

  對于所有半導(dǎo)體,不僅材料而且晶體結(jié)構(gòu)對性能都有很大影響。在圖 7.6 所示的約 200 種不同晶體結(jié)構(gòu)中,僅使用了其中幾種,對于 SiC 來說,這是 4HC。

  圖 7.6:新材料重要基材表。
  擊穿場強(qiáng)提高了 7 倍,因此除電動汽車外,太陽能和風(fēng)力發(fā)電機(jī)逆變器中的 > 3 KV 組件也可采用 SiC,這些是 3 個重要的增長市場。
  7.2 碳化硅二極管
  盡管產(chǎn)量有所提高,但 SiC 晶圓仍然比 Si 晶圓小得多。這就是為什么 > 10 A 的芯片很少可用的原因。由于正 TC,可以通過芯片并聯(lián)連接來處理更高的電流。
  對于 Si,只有所謂的“純”肖特基二極管只能制成高達(dá) 100 V 的電壓。有 200 V 肖特基二極管,其價值值得懷疑。與硅超快二極管相比,肖特基二極管也有缺點,例如明顯更高的電容和更高的漏電流。放電電流看起來類似于反向恢復(fù)電流。 SiC 肖特基沒有反向恢復(fù)時間,并且它們的損耗不會隨溫度而增加,這也許是它們重要的優(yōu)勢。它們的電容是 GaAs 二極管的 5 倍,但后者從未得到普及。由于其正 TC,它們對過載很敏感,因為損耗會增加。
 mmmSiC 二極管的結(jié)構(gòu)。該二極管由金屬-半導(dǎo)體接觸構(gòu)成,因此是具有已知優(yōu)點的肖特基二極管。然而,正向電壓相當(dāng)高,大多數(shù)二極管是 600 V 型,1.5 V,遵循正向電壓隨阻斷電壓升高的一般規(guī)則。
  到目前為止主要應(yīng)用是PFC,制造商顯然無法想象其他應(yīng)用。事實上,只要晶體管硬切換到導(dǎo)電二極管上,例如在反激式轉(zhuǎn)換器的次級中,即使標(biāo)準(zhǔn) 600 V 二極管的性能也優(yōu)于 Si 超快二極管。 (參見 Bodo's Power 2009 年 11 月的文章)。即使輸出電壓低至約 25 V,600 V 二極管的性能也優(yōu)于 Si 超快二極管。
  與許多 GaAs 二極管類似,pn 二極管與 SiC 二極管并聯(lián)集成。 pn 二極管在高電流下開始導(dǎo)通。正向電壓約為 4 V,從而保護(hù)“純”SiC 二極管。
  7.3 碳化硅功率晶體管
  多年的二極管生產(chǎn)經(jīng)驗減少了晶圓缺陷,為 SiC 功率晶體管的引入奠定了堅實的基礎(chǔ)。 “天然”晶體管和是 JFET,Semisouth(已解散)等公司以及初的 Infineon 和所有提供共源共柵的公司(例如 USCI)都投票支持 JFET。 Infineon、Rohm、Microsemi 等公司現(xiàn)在更喜歡增強(qiáng)型 MOSFET。 Transic (Fairchild) 是一家生產(chǎn) BT 的公司。此外,IGBT 也在開發(fā)中。電力電子設(shè)計人員必須熟悉 JFET。在開啟之前必須提供負(fù)柵極電源,這限制了 JFET 對于具有輔助電源和共源共柵功能的電源的實用性。
  在功率應(yīng)用方面,SiC 原則上優(yōu)于 GaN,SiC 晶體管已上市多年。在高壓應(yīng)用中,SiC 輕而易舉地?fù)魯×?GaN:盡管 10 多年前,批 SiC 晶體管的指定電壓為 1200 至 1700 V,但 GaN 一直停留在 650 V;直到近,一家公司才冒險指定 1200 V。問題是無法對其進(jìn)行測試,因為測試具有破壞性。 SiC 的另一個優(yōu)點是垂直結(jié)構(gòu),而大多數(shù) GaN 晶體管是在 Si 襯底上制造的,因此它們是橫向的。雖然 GaN 晶體管會被單個過壓脈沖損壞,但 SiC MOSFET 有望達(dá)到雪崩額定值。 JFET 共源共柵可以防雪崩
    “純”和第二代 SiC 二極管的特性顯示并聯(lián) pn 二極管接管電流,從而保護(hù)前者。如果沒有保護(hù),SiC 二極管將因功耗過高而損壞。
  7.3.1 SiC JFET。盡管采用 SiC 和 GaN 的晶體管的自然類型是 JFET,但很難在電源中使用,因為 JFET 是耗盡型晶體管,即在柵極電壓為 0 V 時完全導(dǎo)通。在電源開啟時,它會出現(xiàn)短路,因此它只能在共源共柵中使用,其中標(biāo)準(zhǔn) Si MOSFET 確保開啟時的高阻抗。結(jié)合共源共柵的其他優(yōu)點(例如非??斓拈_關(guān)和低輸入電容),USCI 制造的這些共源共柵是的選擇。很難理解為什么大公司堅持使用 MOSFET。
  JFET 的優(yōu)點:
  在所有晶體管類型中,JFET 是容易生產(chǎn)的。
  比 MOSFET 的 Rdson 更低。
  由于電容較低,開關(guān)損耗較低。單個 JFET(即非共源共柵)的測試并未顯示出比 Si Coolmos 更快的開關(guān)速度。
  由于 Rdson 低于 Si 或 MOSFET,因此損耗更低。
  適合 1200 V 以上的高電壓。
  在 250°C 下連續(xù)工作,前提是外殼能夠承受該溫度。
  損耗不隨溫度而增加。
  由于熱導(dǎo)率高,盡管芯片較小,但熱阻仍然很低。
  無寄生元件、無 SBD、無 dv/dt 限制、無反并聯(lián)二極管。
  缺點:
  JFET 本質(zhì)上是耗盡型的,即柵極電壓為 0 V 時,它們完全導(dǎo)通。為了關(guān)閉它們,必須向柵極施加超過夾斷電壓的負(fù)電壓。因此,柵極驅(qū)動電壓介于 0 V 和夾斷電壓之間,這不適合標(biāo)準(zhǔn) IC 及其正電源。JFET 不能用作電源中的開關(guān)晶體管,因為這需要之前可用的負(fù)電源。打開。因此,JFET 只能用于共源共柵。
  無雪崩等級,可能采用共源共柵,見下文。
  柵極通過 pn 二極管與溝道隔離。如果柵極電壓超過 0.6V,二極管將導(dǎo)通,從而柵極輸入變?yōu)榈妥杩?。對?MOSFET,柵極通過玻璃、SiO2 和高阻抗隔離,任何正電壓或負(fù)電壓低于指定電壓。圖 7.10:SiC 溝槽 JFET 的結(jié)構(gòu)。與任何 JFET 一樣,柵極和溝道以及漏極和溝道之間都有二極管。在 0 V 柵極電壓下,通道已完全導(dǎo)通。如果柵極電壓增加到約0.6V,二極管將導(dǎo)通,柵極輸入變?yōu)榈妥杩埂H绻O電流增加,漏極電勢將會上升。如果它上升到閾值電壓(例如 6V)以上,溝道就會開始夾斷,從而電流無法進(jìn)一步上升。
  圖 7.10:SiC 溝槽 JFET 的結(jié)構(gòu)。與任何 JFET 一樣,柵極和溝道以及漏極和溝道之間都有二極管。在 0 V 柵極電壓下,通道已完全導(dǎo)通。如果柵極電壓增加到約0.6V,二極管將導(dǎo)通,柵極輸入變?yōu)榈妥杩?。如果漏極電流增加,漏極電勢將會上升。如果它上升到閾值電壓(例如 6V)以上,溝道就會開始夾斷,從而電流無法進(jìn)一步上升。
  的開關(guān)是具有 JFET 的 SiC 共源共柵,可從多家公司購買,它們優(yōu)于主要制造商支持的 MOSFET,并且沒有問題。它們不需要接近柵極電壓的高驅(qū)動電壓,也不需要負(fù)柵極電壓。 1200 V 時 < 10 mOhms,650 V 時 < 7 mOhms 是的。由于共源共柵中的下部晶體管是標(biāo)準(zhǔn) Si MOSFET,因此 12 V 驅(qū)動就足夠了。該 Si lv MOSFET 對共源共柵的總 Rdson 貢獻(xiàn) < 1 mOhm
  關(guān)于雪崩特性,SiC 和 GaN 之間存在顯著差異:制造商 USCI 為其 SiC 共源共柵指定了雪崩額定值。 USCI 利用雙極已知的舊保護(hù)電路,例如在內(nèi)燃機(jī)火花發(fā)生器中。如果超過漏極電壓,JFET 中將發(fā)生正常的非破壞性二極管擊穿。如果在下部 MOSFET 的柵極中插入足夠高的電阻,則該漏電流將在電阻兩端產(chǎn)生電壓,終打開共源共柵,從而抑制過載。漏極電壓幾乎保持恒定.
  雖然 GaN 晶體管長期以來僅限于 100 至 200 V,但后來出現(xiàn)了 600 V 類型,1200 V 類型也已發(fā)布多年,但并未問世。甚至批 SiC 晶體管的額定電壓為 1200 至 1700 V。它們將單獨取代許多 Si IGBT,因為它們允許更高的工作頻率。高功率汽車已使用 800 V 電源。問題在于半導(dǎo)體行業(yè)是否能夠提供大量碳化硅。 Si IGBT 制造商推出了第七代。 IGBT 的固有優(yōu)勢:其飽和電壓隨電流的變化很小。 FFET 是電阻器,因此損耗隨著電流的平方而增加。 SiC 晶體管即使在 1200 V 下也因其極低的 Rdson 而具有競爭力。Si IGBT 的利潤得益于預(yù)計不會出現(xiàn) Si 晶圓供應(yīng)問題。
  其他公司在展會上只展示了樣品和一些數(shù)據(jù),但沒有透露更多信息,也沒有提供樣品或文件。大多數(shù)公司只提供共源共柵,單 JFET 目前只能從 USCI 獲得。作者與塞米南和克里人有著密切的通信往來。 TO-247 樣品在 200 W 離線電源與 Coolmos 中進(jìn)行了測試。在 125 KHz 的工作頻率下,效率僅略有提高。在共源共柵中,改進(jìn)非常明顯,而 SiC 和 Si Coolmos 晶體管的改進(jìn)也是如此。
  JFET(無論是單個還是共源共柵)的一個重要應(yīng)用是在橋式電路中,因為它們允許電流在兩個方向上流動。
  與使用 MOSFET 相比,不涉及寄生元件。較低 lv Si MOSFET 的反向二極管速度非???。
  箭頭表示所示的所有電容均取決于電壓 V-1/2。與所有 FET 一樣,它們具有 TC = 0 點,其中導(dǎo)通電阻隨溫度的增加與 - 2.3 mV/度的負(fù)柵極電壓特性相匹配。
關(guān)鍵詞:開關(guān)功率晶體管

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