.離心噴淋式化學(xué)清洗拋光硅片

出處：beijin 發(fā)布于：2007-04-29 10:07:50

系統(tǒng)內(nèi)可按不同工藝編制貯存各種清洗工藝程序，常用工藝是：
FSI“A”工藝： SPM+APM+DHF+HPM
FSI“B”工藝： SPM+DHF+APM+HPM
FSI“C”工藝： DHF+APM+HPM
RCA工藝： APM+HPM
SPM .Only工藝： SPM
Piranha HF工藝： SPM+HF
上述工藝程序中：
SPM=H2SO4+H2O2 4：1 去有機雜質(zhì)沾污
DHF=HF+D1.H2O (1-2%) 去原生氧化物，金屬沾污
APM=NH4OH+ H2O2+D1.H2O 1：1：5或 0.5：1：5
去有機雜質(zhì)，金屬離子，顆粒沾污
HPM=HCL+ H2O2+D1.H2O 1：1：6
去金屬離子Al、Fe、Ni、Na等
如再結(jié)合使用雙面檫洗技術(shù)可進一步降低硅表面的顆粒沾污。

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