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Applied Materials再推新品 SEMVision G4亮相SEMICON Japan

　　Applied Materials日前推出了新一代缺陷識(shí)別SEM系統(tǒng)Applied SEMVision(TM) G4，將SEMVision系統(tǒng)的生產(chǎn)能力拓展到45nm及以下節(jié)點(diǎn)。該設(shè)備將在SEMICON Japan上展出。

　　SEMVision G4最大的特點(diǎn)在于SEM column設(shè)計(jì)以及MPSI（multi-perspective SEM imaging）的應(yīng)用，在每秒一個(gè)缺陷的再檢速率下，圖像分辨率可達(dá)2nm。

　　Applied工藝診斷及控制事業(yè)部SEM分部總經(jīng)理Ronen Benzion表示，45nm節(jié)點(diǎn)以下高比例高密度存儲(chǔ)器及邏輯器件結(jié)構(gòu)的缺陷識(shí)別及分類(lèi)要求SEM系統(tǒng)具有非常優(yōu)異的性能，新推出的SEMVision G4在圖像質(zhì)量及生產(chǎn)能力方面達(dá)到了一個(gè)新的高度，將給客戶(hù)提供快速的缺陷根源分析提高產(chǎn)品良率。

　　東芝半導(dǎo)體公司制造工程運(yùn)營(yíng)部高級(jí)經(jīng)理Tomoharu Watanabe表示，近日SEMVision G4已經(jīng)用于量產(chǎn)工藝中，希望借其來(lái)提供在線(xiàn)缺陷源分析。